반도체 배관 유체 구분 완전 정리 – HCW, HCH, LCH의 차이와 스팀트랩의 역할까지
이 글에서는 반도체 플랜트 배관에서 사용되는 주요 유체(HCW, HCH, LCH)의 구분 기준, 온도 범위, 적용 배관 재질, 스팀트랩의 역할과 선정 방법을 실무 관점에서 정리합니다. 1. HCW, HCH, LCH란? 구분 약어 의미 공급온도 주요 용도 고온순수수 (고온공급)HCWHot Clean Water약 80~90℃온수식 온도 제어, 세정용고온냉각수 (순환수계열)HCHHot Chilled Water약 40~60℃CMP, Etcher 등 온도 안정저온냉각수 (저온공급)LCHLow Chilled Water약 10~20℃반응기 냉각, 일반 냉각HCW는 UPW(Ultra Pure Water) 기반의 고온수로, 세정과 온도 제어를 동시에 담당합니다.HCH는 저온 냉각 후 약간 가열된 냉각수로, 온도 ..
2025. 6. 26.
반도체 설비와 제약 설비의 차이점 – 실무 중심 설계·영업 대응 가이드
반도체와 제약 설비는 겉보기엔 유사한 클린 환경에서 작동하지만, 설계 기준·설비 구조·검증 방식에서 완전히 다른 철학을 가진다. 본 포스트는 제약 설비로 영업 확장하려는 기술영업자·설계 담당자를 위한 실무형 비교 가이드다.1. 설계 및 승인 기준 차이 – 기술스펙 vs 규제 대응실전 포인트: 제약은 설비 '사양 충족'만으로는 수주 불가. "설비 밸리데이션 전체 흐름에 들어갈 수 있는 구조인가?"가 핵심. 항목 반도체 설비 제약 설비 기준 프레임워크SEMI, 내부 품질규정 중심GMP, FDA 21 CFR Part 11, EU-GMP, PIC/S고객 승인 기준기능 사양 충족 여부DQ/IQ/OQ/PQ 포함 밸리데이션 통과 여부문서화 요구도면, 사양서, 납품서URS, DQ, FAT, IQ, OQ, PQ, C..
2025. 5. 26.
스키드(Skid) 시스템이란? – 반도체 플랜트 핵심 장비 해설
1. 스키드 시스템의 정의스키드(Skid) 시스템은 펌프, 밸브, 필터, 센서, 제어 장치 등 다양한 설비를 하나의 프레임 위에 조립한 모듈형 유닛이다. 주로 공장에서 사전 제작 및 조립된 후, 현장에서 통합 설치되기 때문에 설치 기간을 단축하고 시공 품질을 표준화할 수 있는 장점이 있다.특히 반도체 플랜트에서는 고순도 화학약품 공급, 초순수(DIW) 이송, 가스 정제, 필터 유닛 등 정밀 유체 제어가 필요한 공정에 필수적으로 활용된다.2. 스키드 시스템의 구성 요소스키드 시스템은 공정에 따라 구성 방식이 달라지며, 대표적인 구성 요소는 다음과 같다.펌프: 유체 이송용 (원심펌프, 다이어프램 펌프 등)필터 하우징: 입자 제거 및 고순도 유체 확보유량/압력/온도 센서: 실시간 공정 모니터링제어 장치 (PL..
2025. 3. 30.
