이 글에서는 반도체 플랜트 배관에서 사용되는 주요 유체(HCW, HCH, LCH)의 구분 기준, 온도 범위, 적용 배관 재질, 스팀트랩의 역할과 선정 방법을 실무 관점에서 정리합니다.
1. HCW, HCH, LCH란?
구분 | 약어 | 의미 | 공급온도 | 주요 용도 |
고온순수수 (고온공급) | HCW | Hot Clean Water | 약 80~90℃ | 온수식 온도 제어, 세정용 |
고온냉각수 (순환수계열) | HCH | Hot Chilled Water | 약 40~60℃ | CMP, Etcher 등 온도 안정 |
저온냉각수 (저온공급) | LCH | Low Chilled Water | 약 10~20℃ | 반응기 냉각, 일반 냉각 |
- HCW는 UPW(Ultra Pure Water) 기반의 고온수로, 세정과 온도 제어를 동시에 담당합니다.
- HCH는 저온 냉각 후 약간 가열된 냉각수로, 온도 편차를 줄이기 위한 열 안정성 중심 설계에 활용됩니다.
- LCH는 순수 냉각 용도로 사용되며, 온도 제어 정밀도가 낮아도 되는 설비에 사용됩니다.
참고
- HCH와 LCH의 구분은 시스템에 따라 달라지며, 일부 현장에서는 통합 제어를 사용하는 경우도 있습니다.
Q. 왜 유체 이름별로 온도가 다른가?
-> 유체의 목적이 다르기 때문.
예) HCH는 고온 세정용 / LCH는 저온 히팅이나 단순 예열용
장비별 요구조건 및 내식성, 배관 구성요소의 내열성 고려
3. 스팀트랩의 역할은?
스팀트랩이란?
- 스팀라인 내에서 발생한 응축수를 자동 배출하여 건조한 스팀 공급 유지
- 응축수 미배출 시 열전달 효율 저하 + 배관 부식 위험
종류와 용도
스팀트랩 종류 | 적용 사례 | 특징 |
Float Type | 일정 유량 유지 설비 | 온도 변화에 강함 |
Thermodynamic | 배관이 단순한 구간 | 반응 속도 빠름 |
Bimetal/Temp | 고온/저온 정밀 제어 | 반도체 설비 라인에 사용 |
스팀트랩 선택 기준
- 유량: 과소 설계 시 배출 지연
- 압력/온도 조건: 과열/과압 환경에 따라 내구성 차이
- 설비 위치: 라인 끝 or 응축수 발생 지점 확인 필요
주요 설치 위치
- 열교환기 후단: 응축수 발생 지점
- 스팀 메인라인 말단부: 증기 누적 방지
- 드레인 회수 라인: 응축수 회수용
실무 적용 팁
- 스팀트랩 고장은 온도 불균형이나 냉각수 열효율 저하로 연결될 수 있으므로 정기적인 체크 필요
- 반도체 FAB에서는 소형 스팀트랩 + 수평 드레인 배관 설계가 일반적입니다
4. 실무자용 참고 정리 + FAQ
설계시 주요 체크포인트
- 온도별 유체 구분 철저 (LCH/HCH/HCW 혼용 금지)
- 스팀트랩 설치 위치는 배관 최저점 우선
- 유지보수 시 스팀트랩 작동 점검 필수 (막힘·파손 등 주기 점검)
추천 도서 및 참고자료
- 《플랜트 유체 시스템 해설집》(반도체 전공서/중급자 이상 추천)
- 제조사별 스팀트랩 사양서 (e.g. Spirax Sarco, TLV)
FAQ
Q. HCH와 LCH의 구분 기준이 애매합니다. 어떻게 구분하나요?
→ 일반적으로 공급온도가 20℃ 이하이면 LCH, 40~60℃ 범위면 HCH로 판단합니다.
단, 현장 설계 기준에 따라 달라질 수 있습니다.
Q. 스팀트랩 점검 주기는 어느 정도가 적당한가요?
→ 일반적으로 분기별 1회 이상 점검하며, 주요 장비 주변은 월 1회 이상 권장됩니다.
Q. 배관 유체별 밸브 선정 기준이 있나요?
→ HCW/HCH 라인은 내열성 우수한 금속밸브, LCH는 TEFLON 코팅된 밸브를 쓰는 경우가 많습니다.
결론: 유체 구분을 정확히 알아야 ‘온도 문제’ 없는 플랜트가 된다
반도체 배관에서 HCW, HCH, LCH는 온도·용도별로 엄격히 구분되며, 열효율 및 장비 안정성에 큰 영향을 미칩니다.
스팀트랩은 단순한 드레인 장치가 아닌, 전체 배관계의 열균형을 유지하는 핵심 부품으로 보아야 합니다.
설계 및 유지보수 시 이들 요소를 명확히 이해하고 대응하는 것이, 공정 신뢰도 향상과 비용 절감의 핵심입니다.
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